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(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202221787473.7 (22)申请日 2022.07.12 (73)专利权人 上海诺驰精密机 械有限公司 地址 201600 上海市松江区车墩镇泖亭路 1132号2幢2层 (72)发明人 张蓬成 (74)专利代理 机构 上海索源知识产权代理有限 公司 31431 专利代理师 李燕 (51)Int.Cl. B01D 53/04(2006.01) F23G 7/07(2006.01) (54)实用新型名称 一种半导体生产设备进气吸附反应过滤桶 (57)摘要 本实用新型涉及环 境保护技术领域, 具体涉 及一种半导体生产设备进气吸附反应过滤桶, 包 括安装架、 过滤桶主体和过滤组件, 过滤组件包 括过滤器、 导气管、 风扇、 加热器、 催化床、 燃烧器 和吸附滤芯, 过滤桶主体为过滤 组件提供安装条 件, 过滤器对半导体生产产生的废气进行初步过 滤, 初步过滤后的废气在风扇的作用下, 沿着导 气管进入过滤桶主体中, 加热器对废气进行加 热, 方便进行催化燃烧, 催化床与燃烧器配合对 废气进行催 化燃烧处理, 吸附滤芯再将经过催化 燃烧后的废气进一步吸附过滤, 本实用新型将燃 烧法和吸附法结合, 解决了过滤桶过滤方式单 一, 造成废气过滤不完全的问题。 权利要求书1页 说明书4页 附图3页 CN 218011939 U 2022.12.13 CN 218011939 U 1.一种半导体生产设备进气吸附反应过滤桶, 包括安装架、 过滤桶主体和过滤组件, 所 述过滤桶主体与所述安装架固定连接, 并位于所述安装架顶部, 所述过滤组件设置于所述 过滤桶主体内部, 其特 征在于, 所述过滤组件包括过滤器、 导气管、 风扇、 加热器、 催化床、 燃烧器和吸附滤芯, 所述过 滤器与所述过滤桶主体固定连接, 并位于所述过滤桶主体底部, 所述导气管与所述过滤器 连通, 并贯穿所述过滤桶主体, 所述风扇与所述导气管转动连接, 并位于所述导气管内部, 所述加热器与所述过滤桶主体固定连接, 且与所述导气管连通, 并位于所述过滤桶主体内 部, 所述催化床与所述过滤桶主体固定连接, 并位于所述加热器顶部, 所述燃烧器与所述过 滤桶主体固定连接, 并位于所述催化床顶部, 所述吸附滤芯与所述过滤桶主体固定连接, 并 位于所述过 滤桶主体内部 。 2.如权利要求1所述的一种半导体生产设备进气吸附反应过 滤桶, 其特 征在于, 所述安装架包括两个支撑架、 底座、 若干滚轮和若干护栏, 两个所述支撑架分别与所述 过滤桶主体固定连接, 均位于所述过滤桶主体底部, 所述底 座与两个所述支撑架固定连接, 并位于两个所述支撑架底部, 若干所述滚轮分别与所述底座转动连接, 均位于所述底座底 部, 若干所述护栏分别与所述底座拆卸连接, 均位于所述底座顶部 。 3.如权利要求2所述的一种半导体生产设备进气吸附反应过 滤桶, 其特 征在于, 所述过滤桶主体包括外桶、 过滤内桶、 进气管和出气管, 所述外桶与所述支撑架固定连 接, 并位于所述支撑架顶部, 所述外桶设置有排气通道, 所述排气通道位于所述外桶内部, 所述过滤内桶与所述外桶固定连接, 并位于所述外桶内部, 所述过滤内桶具有排气管, 所述 排气管位于所述过滤内桶靠近所述排气通道一侧, 所述进气管与所述外桶固定连接, 且与 所述过滤器连通, 并位于所述外桶一侧, 所述出气管与所述排气通道连通, 并位于所述外桶 远离所述进气管一侧。 4.如权利要求3所述的一种半导体生产设备进气吸附反应过 滤桶, 其特 征在于, 所述过滤组件还包括吸水滤网, 所述吸水滤网与所述外桶固定连接, 并位于所述排气 通道内。 5.如权利要求3所述的一种半导体生产设备进气吸附反应过 滤桶, 其特 征在于, 所述过滤组件还包括冷却器, 所述冷却器与所述外桶固定连接, 并位于所述排气通道 内。权 利 要 求 书 1/1 页 2 CN 218011939 U 2一种半导体生产设 备进气吸附反 应过滤桶 技术领域 [0001]本实用新型涉及环境保护技术领域, 尤其涉及一种半导体生产设备进气吸附反应 过滤桶。 背景技术 [0002]半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料, 半导体在集成电路、 消 费电子、 通信系统、 光伏发电、 照明应用、 大功 率电源转换等领域应用, 半导体生产过程中会 产生废气。 [0003]现有技术(CN212369786U)公开了一种应用于半导体尾气处理设备吸附反应过滤 桶, 包括支架和过滤外筒, 所述过滤外筒的下表 面中部连接有 下输气管, 所述下输气管的侧 壁上连接有侧输气管, 所述下输气管、 侧输气管均为双层结构, 所述下输气管的内层与侧输 气管的内层连通, 所述下输气管 的外层与侧输气管 的外层连通, 所述侧输气管 的侧壁上端 连接有进气口, 所述侧输气管 的顶端连接有出气口, 通过双层侧输气管、 下输气管、 缓流座 的双层设计, 能够减少空间的占用, 整体性较好; 通过内隔离筒与过滤外筒之间的配合作 用, 能够将进气和出气分离开; 通过内置的反应过滤芯对尾气 中需要处理的气体进行反应 并过滤杂质, 能够很好的对尾气处 理。 [0004]半导体行业产生的废气风量大、 成分复杂而且浓度低, 上述过滤桶仅通过反应过 滤芯对废气进 行过滤处理, 过滤方式单一, 会出现废气过滤不完全的情况, 仍对空气 造成一 定污染。 实用新型内容 [0005]本实用新型的目的在于提供一种半导体生产设备进气吸附反应过滤桶, 旨在 解决 过滤桶过滤方式单一, 造成废气过 滤不完全的问题。 [0006]为实现上述目的, 本实用新型提供了一种半导体生产设备进气吸附反应过滤桶, 包括安装架、 过滤桶主体和过滤组件, 所述过滤桶主体与所述安装架固定连接, 并位于所述 安装架顶部, 所述过 滤组件设置 于所述过 滤桶主体内部; [0007]所述过滤组件包括过滤器、 导气管、 风扇、 加热器、 催化床、 燃烧器和吸附滤芯, 所 述过滤器与所述过滤桶主体固定连接, 并位于所述过滤桶主体底部, 所述导气管与所述过 滤器连通, 并贯穿所述过滤桶主体, 所述风扇与所述导气管转动连接, 并位于所述导气管内 部, 所述加热器与所述过滤桶主体固定连接, 且与所述导气管连通, 并位于所述过滤桶主体 内部, 所述催化床与所述过滤桶主体固定连接, 并位于所述加热器顶部, 所述燃烧器与所述 过滤桶主体固定连接, 并位于所述催 化床顶部, 所述吸附滤芯与所述过滤桶主体固定连接, 并位于所述过 滤桶主体内部 。 [0008]其中, 所述安装架包括两个支撑架、 底座、 若干滚轮和若干护栏, 两个所述支撑架 分别与所述过滤桶主体固定连接, 均位于所述过滤桶主体底部, 所述底座与两个所述支撑 架固定连接, 并位于两个所述支撑架底部, 若干所述滚轮分别与所述底座转动连接, 均位于说 明 书 1/4 页 3 CN 218011939 U 3
专利 一种半导体生产设备进气吸附反应过滤桶
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