(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202221721079.3 (22)申请日 2022.07.04 (73)专利权人 武汉天源环保股份有限公司 地址 430000 湖北省武汉市汉南区纱帽街 薇湖西路39 2号 (72)发明人 王雪霞　吴德明　冷超群　李红　 胡文立　熊骏生　黄昭玮　 (74)专利代理 机构 武汉智嘉联合知识产权代理 事务所(普通 合伙) 42231 专利代理师 李平丽 (51)Int.Cl. C02F 9/04(2006.01) (54)实用新型名称 一种集成式 高密度沉淀装置 (57)摘要 本实用新型提供一种集成式高密度沉淀装 置， 其包括： 沉淀池， 沉淀池内部中空且顶部开 口， 沉淀池的内部沿竖直方向还设置有隔板， 隔 板分割沉淀池形成有颗粒形成区域和颗粒沉淀 区域， 隔板的底部沿水平方向还开设有通孔， 以 便颗粒形成区域和颗粒沉淀区域相连通， 颗粒形 成区域相对通孔还设置有倾斜端， 便于颗粒形成 区域的颗 粒物进入颗粒沉淀区域， 颗粒沉淀区域 的底部还设置有锥形沉积端； 分离组件， 包括斜 管和导流板， 斜管沿水平方向设置于颗粒沉淀区 域并位于通孔的上方， 导流板内置于颗粒沉淀区 域并相对通孔倾斜设置。 本实用新型的沉淀装置 设置有锥形沉降端， 可通过颗粒物的自身重力沉 降至沉淀池的底部并排出。 权利要求书1页 说明书4页 附图3页 CN 218025674 U 2022.12.13 CN 218025674 U 1.一种集成式 高密度沉淀装置， 其特 征在于， 包括： 沉淀池， 所述沉淀池内部中空且顶部开口， 所述沉淀池的内部沿竖直方向还设置有隔 板， 所述隔板分割 所述沉淀池形成有颗粒形成区域和颗粒沉淀区域， 所述隔板的底部沿水 平方向还开设有通孔， 以便所述颗粒形成区域和所述颗粒沉淀区域相连通， 所述颗粒形成 区域相对所述通孔还设置有倾斜端， 便于所述颗粒形成区域的颗粒物进入 所述颗粒沉淀区 域， 所述颗粒沉淀区域的底部还设置有锥形沉积端； 分离组件， 包括斜管和导流板， 所述斜管沿水平方向设置于所述颗粒沉淀区域并位于 所述通孔的上方， 用于拦截进入所述颗粒沉淀区域的水流中的颗粒物， 以便颗粒物分离后 的清水流经所述斜管进入所述颗粒沉淀区域的上半部， 所述导流板内置于所述颗粒沉淀区 域并相对所述通孔倾斜设置， 用于减缓所述通孔处水流的冲击并引导颗粒物沉积至所述锥 形沉积端， 所述颗粒沉淀区域的上半部和所述锥形沉积端均设置有排 放口。 2.根据权利要求1所述的集成式高密度沉淀装置， 其特征在于： 还包括T型挡板， 所述T 型挡板内置于所述颗粒形成区域并分割所述颗粒形成区域形成有ph调节区、 絮凝反应区和 助凝反应区， 所述ph调节 区、 所述絮凝反应区和所述助凝反应区依次连通且均设置有药剂 管， 便于所述ph调节区、 所述絮凝 反应区和所述助凝反应区内分别投放不同的药剂， 所述助 凝反应区还连通至所述颗粒沉淀区域并设置有倾斜端， 所述助凝反应区的低位端相对所述 通孔设置， 以便 颗粒形成后的混合液 经所述通孔流入所述颗粒沉淀区域。 3.根据权利要求2所述的集成式高密度沉淀装置， 其特征在于： 还包括搅拌机， 所述搅 拌机的数量 为3个， 其分别设置 于所述ph调节区、 所述絮凝反应区和所述助凝反应区。 4.根据权利要求1所述的集成式高密度沉淀装置， 其特征在于： 还包括支撑柱， 所述支 撑柱设置 于所述沉淀池的底部， 用于支撑所述 沉淀池。 5.根据权利要求4所述的集成式高密度沉淀装置， 其特征在于： 还包括巡检组件， 所述 巡检组件包括用于观测所述沉淀池的巡检台及上下巡检台的楼梯， 所述巡检台设置于所述 沉淀池的侧壁， 所述楼梯设置 于沉淀池的侧壁并连接 至所述巡检台。 6.根据权利要求1所述的集成式高密度沉淀装置， 其特征在于： 还包括溢流堰， 所述溢 流堰设置 于所述颗粒沉淀区域的上半部并相对所述 排放口设置 。 7.根据权利要求6所述的集成式高密度沉淀装置， 其特征在于： 所述溢流堰的顶部设置 为锯齿状。 8.根据权利要求1所述的集成式高密度沉淀装置， 其特征在于： 还包括辅助排放口， 所 述辅助排放口设置于所述斜管的下方并相对所述导流板 设置， 用于排出沉积至所述导流板 处的颗粒物。 9.根据权利要求2所述的集成式高密度沉淀装置， 其特征在于： 所述药剂管的侧壁沿轴 向开设有 多个药剂孔， 以便所述药剂管均匀布 施药剂。 10.根据权利要求9所述的集成式高密度沉淀装置， 其特征在于： 所述ph调节区和所述 絮凝反应区的连通孔位于所述T 型挡板的底部区域， 便于絮凝反应充分进 行， 所述絮凝反应 区和所述助凝反应区的连通孔位于所述T型挡板的顶部区域， 避免助凝反应后的颗粒物 回 流至所述絮凝反应区。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 218025674 U 2一种集成式高密 度沉淀装 置 技术领域 [0001]本实用新型 涉及污水处 理技术领域， 尤其涉及一种集成式 高密度沉淀装置 。 背景技术 [0002]沉淀池是应用沉淀作用去除水中悬浮物的一种构筑物， 净化水质的设备， 被广泛 应用在污水处理厂中， 其原理是利用水的自然沉淀或混凝沉淀的作用来除去水中的悬浮 物， 目前应用较多的沉淀池主要有： 平流式沉淀池、 辅流式沉淀池、 竖流式沉淀池、 斜板(管) 沉淀池、 高密度沉淀池等； 其中， 高密度沉淀池 是一种集絮凝反应、 沉淀、 污泥分离以及污泥 浓缩技术于一体的沉淀池。 [0003]例如， 专利CN206910889U， 公开了一种采用悬挂式刮泥机刮泥的斜管沉淀池， 包括 沉淀池、 设置在所述沉淀池内中部的斜管区以及设置在所述沉淀池内下部的积泥区； 在所 述沉淀池上方设置有支撑平台， 在所述支撑平台上设置有刮泥机， 在所述沉淀池的池底设 置有排泥管； 在所述沉淀池的池底设置有一向所述排泥管方向倾斜的刮泥台， 所述刮泥机 的刮泥板平行设置在所述刮泥台上方， 所述刮泥板的底面与所述刮泥台表面平行且贴合； 所述刮泥板可持续旋转带动所述积泥区的泥水通向所述 排泥管内进 而排出所述沉淀池外 。 [0004]目前， 现有的高密度沉淀池在斜管沉降区的底部都设有刮 泥机， 主要依靠刮泥机 将底部沉降的污泥推动至中央集泥槽内， 收集的污泥部分排出沉淀池， 部分又会泵回到沉 淀池前端， 这种做法虽能及时有效的清理沉降在池底的污泥， 避免产生厌氧污泥和污泥堆 积或板结现象， 但会增加工艺单元的处理能耗和处理负荷， 且在刮泥机的转动的过程中， 也 会打破已沉降污泥的静态平衡， 影响污泥的沉降效果， 从而影响沉淀池净化水 的水质以及 产水率。 实用新型内容 [0005]有鉴于此， 有必要提供一种集成式高密度沉淀装置， 解决现有技术中的沉淀池在 刮泥机工作时容 易打破液体静态 平衡的技 术问题。 [0006]为达到上述技术目的， 本实用新型的技术方案提供一种集成式高密度沉淀装置， 其包括： [0007]沉淀池， 所述沉淀池内部中空且顶部开口， 所述沉淀池的内部沿竖直方向还设置 有隔板， 所述隔板分割 所述沉淀池形成有颗粒形成区域和颗粒沉淀区域， 所述隔板的底部 沿水平方向还开设有通孔， 以便所述颗粒形成区域和所述颗粒沉淀区域相连通， 所述颗粒 形成区域相对所述通孔还设置有倾斜端， 便于所述颗粒形成区域的颗粒物进入所述颗粒沉 淀区域， 所述颗粒沉淀区域的底部还设置有锥形沉积端； [0008]分离组件， 包括斜管和导流板， 所述斜管沿水平方向设置于所述颗粒沉淀区域并 位于所述通孔的上方， 用于拦截进入所述颗粒沉淀区域的水流中的颗粒物， 以便颗粒物分 离后的清水流经所述斜管进入所述颗粒沉淀区域的上半部， 所述导流板内置于所述颗粒沉 淀区域并相对所述通孔倾斜设置， 用于减缓所述通孔处水流的冲击并引导颗粒物沉积至所说　明　书 1/4 页 3 CN 218025674 U 3